无损伤超光滑LBO晶体表面抛光方法研究

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无损伤超光滑LBO晶体表面抛光方法研究

来源：<<光学技术>>2006年06期发布日期：2007-11-19

传统的抛光LBO晶体的方法是选用金刚石抛光粉在沥青抛光盘上抛光.沥青盘易于变形不容易修整,金刚石粉特别硬容易损伤抛光晶体表面.抛光过程中,抛光盘和抛光粉的选择是非常重要的,直接影响到抛光效率和最终的表面质量.新的抛光LBO晶体的方法,其抛光过程是一个化学机械过程,抛光盘、抛光粉和抛光材料相互作用.选用两种抛光盘(培纶和聚氨酯盘),三种较软的抛光磨料(CeO2,Al2O3和SiO2胶体),并在LBO晶体的(001)面进行抛光实验.用原子力显微镜测量和分析了表面粗糙度.结果表明,使用聚氨酯盘和SiO2胶体能够获得无损伤超光滑的LBO晶体表面,其表面粗糙度的RMS为0.3nm。