首页 > 电子元件 > MEMS晶振 >什么是psm掩膜版

什么是psm掩膜版

作者:197ges 时间:2022-01-25 22:05:54

缺陷检查:对照客户技术/品质指标检测掩膜版制版过程产生的缺陷并记录坐标及相关信息。掩膜版的基本检查主要有:基板、名称、版别、图形、排列、膜层关系、伤痕、图形边缘、微小尺寸、尺寸、缺陷检查等。

缺陷修补:对检验发现缺陷进行修补。修补包括对丢失的细微铬膜进行LCVD沉积补正以及对多余的铬膜进行激光切除等。

清洗:再次清洗为贴合掩膜版Pellicle做准备。

贴膜:将Pellicle贴合在掩膜版之上,降低下游客户制造过程中灰尘造成的不良率。

检查:对掩膜版作最后检测工作,以确保掩膜版符合品质指标。

出货:对掩膜版进行包装,然后发货。

掩膜版产品根据基板材质的不同主要可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)。

光刻掩膜版:

我国掩膜板制造主要集中在少数企业和部分科研院所。面板领域,国内能够配套TFT(薄膜晶体管)用掩膜板的企业只有路维光电和清溢光电,主要针对8.5代以下掩膜板;半导体领域,少数企业如无锡华润、无锡中微等,只能制造0.13μm以上StepperMask;对于HTM(半透膜)、GTM(灰阶掩模板)、PSM(先进相移掩模)等掩模板,我国主要依赖进口。

随着面板世代线增加不断增大,对掩膜板精度、分辨率、平坦度和精度提出更高的要求。在高世代TFT领域,国内配套掩膜板还是一片空白。AMOLED、Gray-tone、Half-tone掩膜板等,同样依赖进口。国内能够配套G8.5以下TFT用掩膜板的企业只有路维光电和清溢光电。半导体领域,除英特尔、三星、台积电三家全球先进的晶圆制造厂所用的掩膜板自供外,其它的掩膜板主要被美国Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所垄断。国内少数企业如无锡华润、无锡中微等,只能制造0.13μm以上Stepper Mask。。

在刻画时,采用步进机刻画(stepper),其中有电子束和激光之分,激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画,边缘起点5mm,与电子束相比,其弧形更逼真,线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有称为中间掩膜,reticle作为单位译为光栅),用步进机重复将比例缩小到master maks上,应用到实际曝光中的为工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask复制过来。

光掩膜除了应用于芯片制造外,还广泛的应用与像LCD,PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种,铬版(chrome)、干版,凸版、液体凸版。主要分两个组成部分,基板和不透光材料。基板通常是高纯度,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小,虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶,硬度小且易吸附灰尘,不过干版还有包膜和超微颗粒干版,其中后者可以应用于芯片制造。(顺便提一下,通常讲的菲林即film,底片或胶片的意思,感光为微小晶体颗粒)。

苏州硅时代电子科技有限公司(Si-Era),集高精度掩模版的设计、研发、制作与服务为一体,公司硬件配置先进,从瑞典、日本、德国等国引进同行业先进的掩模版直写光刻制作系统及检查测量的设备,公司核心技术团队硕士学历及以上占比80%,骨干员工均有5年以上的掩模版生产、研发经验。

公司的主要产品高精密掩模版应用于:集成电路(IC),IC封装,微机电(MEMS),功率器件与分立器件,平板显示行业(FPD),线路板行业,以及发光二极管(LED)和精细光学元器件行业,产品处于中国大陆掩膜版行业的先进水平。同时公司拥有强大的MEMS设计与加工实力,具备成熟的光刻、刻蚀、镀膜、封装、测试等微纳加工能力,为客户提供全方位的技术服务。